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當前的問題

2017年11月21日

集成電路工業過程控制的十大基礎

過程控制基礎

本文是就半導體產業製程控制(檢測與量測)的根本法則進行討論的十集系列連載中的第一集。 所謂根本,我們的意思是指它們:

  • 毋庸置疑: 它們不證自明,從第一原理就能證明,或者世界各地晶圓廠占主導地位的行為 予以佐證。
  • 恒定不變: 這些概念如同 15 年前適用於 0.25μm 那樣,對於現今的 28nm 同樣適用,並且 預期未來仍將有效。
  • 普遍適用: 它們並非只對於某個特定區段的製程控制適用,而是適用於整體的製程控制, 又適用於晶圓廠內每個單獨的製程控制部分。

本系列連載中的每篇文章都將介紹十個根本法則之一,並就這些法則對於半導體積體電路晶圓廠 的一些有趣應用情況進行討論。鑑於先進元件和製程整合的複雜性越來越高,製程控制變得越來 越重要。透過瞭解製程控制的根本性質,晶圓廠可以更好地實施策略,以識別關鍵缺陷,發現偏 離,並減少變動來源。