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当前的问题

2017年11月21日

集成电路工业过程控制的十大基础

本系列连载中的每篇文章都将介绍半导体产业工艺控制(检测与量测)的十个根本法则之一,并就这些法则对于半导体集成电路晶圆厂的一些有趣应用情况进行讨论。鉴于先进器件和工艺集成的复杂性越来越高,工艺控制变得越来越重要。通过了解工艺控制的根本性质,晶圆厂可以更好地实施战略,以识别关键缺陷,发现偏离,并减少变动来源。

所谓根本法则,我们的意思是指它们:

  • 毋庸置疑: 它们不证自明,从第一原理就能证明,或者世界各地晶圆厂占主导地 位的行为予以佐证。
  • 恒定不变: 这些概念如同 15 年前适用于 0.25μm 那样,对于现今的 28nm 同样 适用,并且预期未来仍将有效。
  • 普遍适用: 它们并非只对于某个特定区段的工艺控制适用,而是适用于整体的工 艺控制,又适用于晶圆厂内每个单独的工艺控制部分。

虽然这是事实,检测与量测系统不是用来制造集成电路器件的——它们不增减材料或建立 图案——但是它们对于制造高成品率的可靠器件至关重要。通过查找缺陷和测量关键参 数,检测与量测系统监控着制造一个器件所需的数百道工序,确保工艺符合严格的制造规 范,并在发生偏离时帮助晶圆厂工程师识别和检查工艺问题。如果没有检测与量测,晶圆 厂要找出影响成品率的工艺问题几乎是不可能的。然而,只是“发现”和“测量”还远远 不够——晶圆厂的工艺控制策略需要能力强,且具有成本效益。